iPhone X con Notch più sottile? Ecco le immagini di un concept

Alcuni designer creano un concept del possibile e futuro iPhone X del 2019, che secondo i rumors avrà una Notch più sottile.

Il famoso sito iDropNews ci delizia con un nuovo concept, diffuso in un set completo di immagini, dove viene mostrato ciò che i rumors confermano avverrà in futuro, ovvero una barra sensori Notch più sottile.

Secondo i rumors infatti, Apple starebbe progettando un nuovo Face ID per il 2019, che incrementerà la velocità di sblocco, e sarà molto più piccolo e compatto all’interno dei futuri iPhone, in modo tale da poter rimpicciolire la Notch.

In fine, secondo quanto riferito da alcune fonti, LG Innotek fornirà tutti o la maggior parte dei moduli di rilevamento 3D per i futuri modelli di iPhone ed iPad di nuova generazione, basati su un investimento di ben 821 milioni di dollari che potrebbe essere stato finanziato almeno parzialmente da Apple stessa.

Il designer immagina iPhone anche con una doppia SIM, cosa che Apple prevede di fare in futuro, ma solo nel mercato Cinese. Si nota anche un design leggermente cambiato sulla parte posteriore, ed anche sui bordi dello smartphone.

Vi lascio alla galleria completa d’immagini. Buona visione!